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电子级硫酸 (98%, G5)

CAS: 7664-93-9 H2SO4

电子和半导体化学品 Electronic Acids

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电子级硝酸 (68%, G4/G5)

CAS: 7697-37-2 HNO3

电子和半导体化学品 Electronic Acids

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电子级盐酸 (31%)

CAS: 7647-01-0 HCl

电子和半导体化学品 Electronic Acids

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电子级磷酸 (85%)

CAS: 7664-38-2 H3PO4

电子和半导体化学品 Electronic Acids

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电子级氢氟酸 (HF, 49%)

CAS: 7664-39-3 HF

电子和半导体化学品 Electronic Acids

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电子级乙酸 (99.9%+)

CAS: 64-19-7 CH3COOH

电子和半导体化学品 Electronic Solvents

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电子级异丙醇 (IPA, 99.99%)

CAS: 67-63-0 C3H8O

电子和半导体化学品 Electronic Solvents

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电子级丙酮 (99.99%+)

CAS: 67-64-1 C3H6O

电子和半导体化学品 Electronic Solvents

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电子级N-甲基-2-吡咯烷酮 (NMP)

CAS: 872-50-4 C5H9NO

电子和半导体化学品 Electronic Solvents

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电子级甲醇

CAS: 67-56-1 CH₃OH

电子和半导体化学品 Electronic Solvents

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电子级乙醇

CAS: 64-17-5 C2H5OH

电子和半导体化学品 Electronic Solvents

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超纯水（UPW）

CAS: 7732-18-5 H2O

电子和半导体化学品 Ultrapure Fluids

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G-Line光刻胶 (365 nm)

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Photoresists

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I-Line光刻胶 (365 nm)

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Photoresists

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KrF光刻胶 (248 nm)

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Photoresists

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ArF光刻胶（193 nm，干式）

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Photoresists

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ArF浸没式光刻胶 (193 nm)

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Photoresists

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EUV光刻胶 (13.5 nm)

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Photoresists

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正性光刻胶

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Photoresists

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负性光刻胶

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Photoresists

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底部抗反射涂层（BARC）

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Photoresist Ancillaries

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Top Coat（浸没式光刻）

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Photoresist Ancillaries

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光酸产生剂 (PAG)

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Photoresist Ancillaries

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TMAH显影液 (2.38%)

CAS: 75-59-2 N/A

电子和半导体化学品 Developers

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缓冲氧化物蚀刻液（BOE，HF/NH₄F）

CAS: N/A HF/NH₄F

电子和半导体化学品 Wet Etchants

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SC1 清洗（NH₄OH + H₂O₂ + H₂O）

CAS: N/A NH₄OH + H₂O₂ + H₂O

电子和半导体化学品 Cleaning Solutions

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SC2 清洗液（盐酸 + 过氧化氢 + 水）

CAS: N/A HCl + H₂O₂ + H₂O

电子和半导体化学品 Cleaning Solutions

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RCA标准清洗液

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Cleaning Solutions

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铜保护清洁剂

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Cleaning Solutions

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Post-CMP清洗液

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Cleaning Solutions

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单片喷洗清洁机

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Cleaning Solutions

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干法刻蚀气体（CF₄、C₄F₈、SF₆、NF₃）

CAS: 75-71-8, 115-20-8, 2551-62-4, 7783-54-2 CF₄, C₄F₈, SF₆, NF₃

电子和半导体化学品 Plasma Gases

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沉积气体（SiH₄、TEOS、WF₆）

CAS: 7803-62-5, 78-10-4, 7783-82-6 SiH₄, C₈H₂₀O₄Si, WF₆

电子和半导体化学品 CVD/ALD Gases

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六氟化钨 (WF₆)

CAS: 7783-82-6 WF₆

电子和半导体化学品 CVD Gases

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Silane (SiH₄)

CAS: 7803-62-5 SiH₄

电子和半导体化学品 CVD Gases

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正硅酸四乙酯（TEOS）

CAS: 1978/10/4 C8H20O4Si

电子和半导体化学品 CVD Precursors

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四氯化钛 (TiCl₄)

CAS: 7719/12/2 TiCl₄

电子和半导体化学品 CVD Precursors

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五氯化钽 (TaCl₅)

CAS: 7721/2/6 TaCl₅

电子和半导体化学品 CVD Precursors

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氢氧化铵（28-30%，电子级）

CAS: 1336-21-6 NH4OH

电子和半导体化学品 Bases

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过氧化氢 (30%，电子级)

CAS: 7722-84-1 H2O2

电子和半导体化学品 Oxidizers

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硅片（抛光）

CAS: 7782-42-5 Si

电子和半导体化学品 Substrates

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砷化镓 (GaAs) 衬底

CAS: 1303-00-0 GaAs

电子和半导体化学品 Substrates

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Nitrogen (N₂, 高纯度)

CAS: 7727-37-9 N₂

电子和半导体化学品 Process Gases

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Argon (Ar, 高纯度)

CAS: 7440-37-1 Ar

电子和半导体化学品 Process Gases

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Oxygen (O₂, 高纯度)

CAS: 7782-44-7 O₂

电子和半导体化学品 Process Gases

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Hydrogen (H₂, 高纯度)

CAS: 1333-74-0 H₂

电子和半导体化学品 Process Gases

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Helium (He, 高纯度)

CAS: 7440-59-7 He

电子和半导体化学品 Process Gases

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Chlorine (Cl₂, 高纯度)

CAS: 7782-50-5 Cl₂

电子和半导体化学品 Etch Gases

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三氯化硼 (BCl₃)

CAS: 10294-34-5 BCl₃

电子和半导体化学品 Etch Gases

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磷化氢（PH₃）

CAS: 7803-51-2 PH₃

电子和半导体化学品 Doping Gases

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Arsine (AsH₃)

CAS: 7784-42-1 AsH₃

电子和半导体化学品 Doping Gases

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Diborane (B₂H₆)

CAS: 19287-45-7 B₂H₆

电子和半导体化学品 Doping Gases

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三甲基铝（TMA）

CAS: 75-24-1 Al2(CH3)6

电子和半导体化学品 ALD Precursors

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三甲基硼（TMB）

CAS: 54-96-6 C3H9B

电子和半导体化学品 ALD Precursors

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异丙醇钛（TTIP）

CAS: 546-68-9 C12H28O4Ti

电子和半导体化学品 CVD Precursors

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乙氧基钽

CAS: 7360-38-5 Ta(OC2H5)5

电子和半导体化学品 CVD Precursors

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二硅烷（Si₂H₆）

CAS: 1590-87-0 Si₂H₆

电子和半导体化学品 Epitaxy Gases

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Germane (GeH₄)

CAS: 7782-65-2 GeH4

电子和半导体化学品 Epitaxy Gases

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Ammonia (NH₃, 高纯度)

CAS: 7664-41-7 NH₃

电子和半导体化学品 Process Gases

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二氧化碳 (CO₂, 高纯度)

CAS: 124-38-9 CO₂

电子和半导体化学品 Process Gases

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六氟化硫 (SF₆)

CAS: 2551-62-4 SF₆

电子和半导体化学品 Etch Gases

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三氟化氮 (NF₃)

CAS: 7783-54-2 NF3

电子和半导体化学品 Etch Gases

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全氟环丁烷（c-C₄F₈）

CAS: 115-25-3 C4F8

电子和半导体化学品 Etch Gases

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八氟环丁烷 (C₄F₈)

CAS: 115-25-3 C₄F₈

电子和半导体化学品 Etch Gases

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三氟甲烷（CHF₃，R23）

CAS: 75-46-7 CHF₃

电子和半导体化学品 Etch Gases

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四氟化碳 (CF₄)

CAS: 75-71-8 CF4

电子和半导体化学品 Etch Gases

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六氟乙烷（C₂F₆）

CAS: 76-16-4 C₂F₆

电子和半导体化学品 Etch Gases

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全氟丙烷（C₃F₈）

CAS: 76-19-7 C₃F₈

电子和半导体化学品 Etch Gases

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全氟丁烷（C₄F₁₀）

CAS: 355-25-9 C₄F₁₀

电子和半导体化学品 Etch Gases

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三碘氟甲烷（CF₃I）

CAS: 2314-97-8 CF₃I

电子和半导体化学品 Etch Gases

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三氟溴甲烷（哈龙1301）

CAS: 75-63-8 CF3Br

电子和半导体化学品 Etch Gases

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溴氯二氟甲烷（哈龙1211）

CAS: 353-59-3 CBrClF2

电子和半导体化学品 Etch Gases

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电子级去离子水 (DI Water)

CAS: 7732-18-5 H2O

电子和半导体化学品 Ultrapure Fluids

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晶圆表面清洗液

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Cleaning Solutions

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干燥剂（用于离心干燥）

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Drying Solutions

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酸性铜电镀液

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Plating Solutions

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化学镀铜溶液

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Plating Solutions

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铜增亮剂

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Additives

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润湿剂与抑制剂

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Additives

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浸银溶液

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Surface Finishes

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沉金（ENIG）

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Surface Finishes

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沉锡

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Surface Finishes

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OSP (有机保焊剂)

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Surface Finishes

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干膜光阻剂

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Photoresists

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液态光刻胶（PCB）

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Photoresists

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焊锡阻剂油墨

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Coatings

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丝网印刷油墨

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Marking

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孔壁清洁剂 (去污)

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Cleaning Solutions

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黑色氧化处理

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Surface Treatment

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PTH活化剂（Pd基）

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Catalysts

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微蚀刻

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Surface Prep

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防变色剂

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Protection

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离子污染测试套装

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电子和半导体化学品 QC

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粘合促进剂

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电子和半导体化学品 Interface

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导热膏 (TIMs)

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电子和半导体化学品 Thermal Management

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介电凝胶和封装材料

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Protection

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导电胶（银填充）

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Assembly

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抗静电剂（洁净室）

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 ESD Control

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Nano-SiO₂ 分散液

CAS: 7631-86-9 SiO₂

电子和半导体化学品 CMP & Coatings

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表面处理剂（用于PCB）

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 PCB Manufacturing

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热界面材料（TIM）

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Thermal Management

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底部填充封装材料

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模塑化合物

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电子和半导体化学品 Packaging

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线键合线

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粘接胶水

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助焊剂（用于焊接）

CAS: N/A N/A

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清洗液（用于助焊剂去除）

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电子和半导体化学品 Cleaning

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密封涂层

CAS: N/A N/A

电子和半导体化学品 Protection

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灌封化合物

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电子和半导体化学品 Protection

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EMI屏蔽材料

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电子和半导体化学品 EMI Control

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导热硅脂

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相变材料 (PCM)

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电子和半导体化学品 Thermal Management

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导热硅脂

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导热垫片

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导电胶

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各向异性导电膜（ACF）

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光学胶

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UV固化封装材料

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聚对二甲苯涂层

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原子层沉积 (ALD) 化学品

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分子束外延（MBE）源

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离子注入掺杂剂

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晶圆减薄胶带

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圆盘锯片

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CMP抛光液（用于铜、STI、钨）

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CMP后清洁剂

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晶圆载体（FOUP、FOSB）

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洁净室服装

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技术支持

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ESG报告支持

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