TMAH显影液 (2.38%)
危险产品
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价格面议
概述
基于TMAH的显影液（2.38%），用于半导体制造中的高精度光刻。
CAS号
75-59-2
分子式
N/A
产品等级
SEMI
危险等级
CLASS 8
Corrosive Substances
外观
liquid
包装形式
Drum IBC Bulk Canister
产品描述
基于TMAH的显影液（2.38%）是一种在电子和半导体行业中使用的专用溶液。它作为蚀刻剂和剥离剂，在半导体制造过程中的光刻工艺中起着关键作用。该产品确保晶圆上精确的图案开发，支持先进微电子器件的制造。其主要特性包括高纯度和一致的性能，适用于芯片生产中的苛刻应用。
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