TMAH-basiertes Entwicklungsmedium (2,38%)
Gefährliches Produkt
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Übersicht
TMAH-Based Developer (2.38%) for high-precision lithography in semiconductor manufacturing.
CAS-Nummer
75-59-2
Molekularformel
N/A
Produktgrad
SEMI
Gefahrenklasse
CLASS 8
Corrosive Substances
Erscheinungsbild
liquid
Lieferformen
Drum IBC Bulk Canister
Produktbeschreibung
TMAH-basiertes Entfernungsmittel (2,38 %) ist eine spezielle Lösung, die in der Elektronik- und Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Es dient als Ätzmittel und Abtragungsstoff und ist kritisch für den Photolithografieprozess bei der Halbleiterfertigung. Dieses Produkt gewährleistet eine präzise Musterentwicklung auf Wafern und unterstützt die Erstellung fortschrittlicher Mikroelektronikgeräte. Seine wesentlichen Eigenschaften sind hohe Reinheit und konstante Leistungsfähigkeit, wodurch es für anspruchsvolle Anwendungen in der Chipproduktion geeignet ist.
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