Negativ-Ton Fotolack
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Übersicht
Negative Tone Photoresist for precise IC manufacturing.
CAS-Nummer
N/A
Molekularformel
N/A
Produktgrad
SEMI
Erscheinungsbild
liquid
Lieferformen
Canister Drum
Produktbeschreibung
Negativer Tone Photoresist ist ein spezielles Chemikalie, das in der Halbleitertechnik zur Erstellung von Mustern auf Siliziumwafern verwendet wird. Es ist entscheidend bei der Herstellung von ICs (Integrierten Schaltkreisen), bei der es die Bildung feiner Strukturen durch Photolithografie ermöglicht. Dieses Produkt bietet hervorragende Auflösung und Haftungseigenschaften und ist daher ideal für fortgeschrittene elektronische Anwendungen. Seine Fähigkeit, robuste Muster bei UV-Lichtbelastung zu bilden, unterstützt die Produktion hochleistungsfähiger Halbleiter.
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