Elektronik- & Halbleiterchemikalien
Entdecken Sie unsere Kollektion von elektronik- & halbleiterchemikalien-Produkten
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Elektronikreiner Schwefelsäure (98%, G5)
Elektronikgrad-Nitrische Säure (68%, G4/G5)
Elektronik-Reinheit Salzsäure (31%)
Elektronikgrad Phosphorsäure (85%)
Elektronikgrad-Hydrofluorsäure (HF, 49%)
Elektronikreiner Essigsäure (99,9%+)
Elektronikreiner Isopropylalkohol (IPA, 99,99 %)
Elektronikreiner Aceton (99,99%+)
Elektronikreiner N-Methyl-2-pyrrolidon (NMP)
Elektronikreiner Methanol
Elektronikreiner Ethanol
Ultra-Reines Wasser (UPW)
G-Line Photoresist (365 nm)
I-Line Photoresist (365 nm)
KrF Photoresist (248 nm)
ArF-Lichtempfindliches Material (193 nm, trocken)
ArF-Immersionsichtmasse (193 nm)
EUV-Lichtempfindlich (13,5 nm)
Positiver Ton Fotoregisternachweis
Negativ-Ton Fotolack
Unterseiten-Reflektionsminderungsschicht (BARC)
Top Coat (Immersionslithografie)
Photoacidgenerator (PAG)
TMAH-basiertes Entwicklungsmedium (2,38%)
Pufferter Oxidationsätzmittel (BOE, HF/NH₄F)
SC1 Reiniger (NH₄OH + H₂O₂ + H₂O)
SC2 Reiniger (HCl + H₂O₂ + H₂O)
RCA Standardreiniger
Kupfer-Schutzreiniger
Nach-CMP-Reinigungsflüssigkeiten
Einzelwafer-Sprühreiniger
Trockenes Ätzgas (CF₄, C₄F₈, SF₆, NF₃)
Abscheidungsgase (SiH₄, TEOS, WF₆)
Wolframhexafluorid (WF₆)
Silan (SiH₄)
TEOS (Tetraethylorthosilicat)
Titanium(IV)-chlorid (TiCl₄)
Tantalumchlorid (TaCl₅)
Ammoniumhydroxid (28–30 %, Elektronikgrad)
Wasserstoffperoxid (30 %, Elektronikgrad)
Siliziumwafer (poliert)
Galliumarsenid (GaAs) Substrate
Stickstoff (N₂, hochrein)
Argon (Ar, hochrein)
Sauerstoff (O₂, hochrein)
Wasserstoff (H₂, hochrein)
Helium (He, hochrein)
Chlor (Cl₂, hochrein)
Bortrichlorid (BCl₃)
Phosphin (PH₃)
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