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Elektronik- & Halbleiterchemikalien

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Electronic-Grade Sulfuric Acid (98%, G5) - CAS 7664-93-9 - Chemical Product

Electronic-Grade Sulfuric Acid (98%, G5)

CAS: 7664-93-9 H2SO4
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Electronic-Grade Nitric Acid (68%, G4/G5) - CAS 7697-37-2 - Chemical Product

Electronic-Grade Nitric Acid (68%, G4/G5)

CAS: 7697-37-2 HNO3
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Electronic-Grade Hydrochloric Acid (31%) - CAS 7647-01-0 - Chemical Product

Electronic-Grade Hydrochloric Acid (31%)

CAS: 7647-01-0 HCl
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Electronic-Grade Phosphoric Acid (85%) - CAS 7664-38-2 - Chemical Product

Electronic-Grade Phosphoric Acid (85%)

CAS: 7664-38-2 H3PO4
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Electronic-Grade Hydrofluoric Acid (HF, 49%) - CAS 7664-39-3 - Chemical Product

Electronic-Grade Hydrofluoric Acid (HF, 49%)

CAS: 7664-39-3 HF
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Electronic-Grade Acetic Acid (99.9%+) - CAS 64-19-7 - Chemical Product

Electronic-Grade Acetic Acid (99.9%+)

CAS: 64-19-7 CH3COOH
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Electronic-Grade Isopropyl Alcohol (IPA, 99.99%) - CAS 67-63-0 - Chemical Product

Electronic-Grade Isopropyl Alcohol (IPA, 99.99%)

CAS: 67-63-0 C3H8O
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Electronic-Grade Acetone (99.99%+) - CAS 67-64-1 - Chemical Product

Electronic-Grade Acetone (99.99%+)

CAS: 67-64-1 C3H6O
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Electronic-Grade N-Methyl-2-pyrrolidone (NMP) - CAS 872-50-4 - Chemical Product

Electronic-Grade N-Methyl-2-pyrrolidone (NMP)

CAS: 872-50-4 C5H9NO
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Electronic-Grade Methanol - CAS 67-56-1 - Chemical Product

Electronic-Grade Methanol

CAS: 67-56-1 CH₃OH
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Electronic-Grade Ethanol - CAS 64-17-5 - Chemical Product

Electronic-Grade Ethanol

CAS: 64-17-5 C2H5OH
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I-Line Photoresist (365 nm) - CAS N/A - Chemical Product

I-Line Photoresist (365 nm)

CAS: N/A N/A
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EUV Photoresist (13.5 nm) - CAS N/A - Chemical Product

EUV Photoresist (13.5 nm)

CAS: N/A N/A
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Positive Tone Photoresist - CAS N/A - Chemical Product

Positive Tone Photoresist

CAS: N/A N/A
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Negative Tone Photoresist - CAS N/A - Chemical Product

Negative Tone Photoresist

CAS: N/A N/A
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Bottom Anti-Reflective Coating (BARC) - CAS N/A - Chemical Product

Bottom Anti-Reflective Coating (BARC)

CAS: N/A N/A
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Top Coat (Immersion Lithography) - CAS N/A - Chemical Product

Top Coat (Immersion Lithography)

CAS: N/A N/A
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SC2 Clean (HCl + H₂O₂ + H₂O) - CAS N/A - Chemical Product

SC2 Clean (HCl + H₂O₂ + H₂O)

CAS: N/A HCl + H₂O₂ + H₂O
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Photoacid Generator (PAG) - CAS N/A - Chemical Product

Photoacid Generator (PAG)

CAS: N/A N/A
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TMAH-Based Developer (2.38%) - CAS 75-59-2 - Chemical Product

TMAH-Based Developer (2.38%)

CAS: 75-59-2 N/A
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