SC2 Reiniger (HCl + H₂O₂ + H₂O)
Gefährliches Produkt
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Übersicht
SC2 Clean (HCl + H₂O₂ + H₂O) for semiconductor wafer cleaning.
CAS-Nummer
N/A
Molekularformel
HCl + H₂O₂ + H₂O
Produktgrad
SEMI
Gefahrenklasse
CLASS 8
Corrosive Substances
Erscheinungsbild
liquid
Lieferformen
Drum IBC Bulk
Produktbeschreibung
SC2 Clean ist eine spezielle Reinigungsflüssigkeit, die für die Elektronik- und Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Sie entfernt effektiv Metallverunreinigungen von Siliziumwafern und gewährleistet hohe Reinheit und Leistungsfähigkeit bei der Halbleiterherstellung. Dieses Produkt wird in der Herstellung von integrierten Schaltkreisen und mikroelektronischen Geräten weit verbreitet verwendet, wo seine starken Ätz- und Reinigungseigenschaften entscheidend sind.
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