SC2 Reiniger (HCl + H₂O₂ + H₂O)
Preis auf Anfrage
Preis auf Anfrage
Übersicht
SC2 Clean (HCl + H₂O₂ + H₂O) for semiconductor wafer cleaning.
Produktbeschreibung
SC2 Clean ist eine spezielle Reinigungsflüssigkeit, die für die Elektronik- und Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Sie entfernt effektiv Metallverunreinigungen von Siliziumwafern und gewährleistet hohe Reinheit und Leistungsfähigkeit bei der Halbleiterherstellung. Dieses Produkt wird in der Herstellung von integrierten Schaltkreisen und mikroelektronischen Geräten weit verbreitet verwendet, wo seine starken Ätz- und Reinigungseigenschaften entscheidend sind.