SC2 清洗液(盐酸 + 过氧化氢 + 水) (HCl + H₂O₂ + H₂O) • CAS N/A • 国际供应商

SC2 清洗液(盐酸 + 过氧化氢 + 水)

SC2 清洗液(盐酸 + 过氧化氢 + 水) - CAS N/A - Chemical Product
危险产品
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价格面议

概述

SC2清洗液(盐酸+双氧水+水),用于半导体晶圆清洗。

CAS号

N/A

分子式

HCl + H₂O₂ + H₂O

产品等级

SEMI

危险等级

CLASS 8

Corrosive Substances

外观

liquid

包装形式

Drum IBC Bulk

产品描述

SC2清洁剂是一种专为电子和半导体行业设计的清洁溶液。它能有效去除硅片上的金属污染物,确保半导体制造过程中的高纯度和高性能。该产品广泛用于集成电路和微电子器件的制造中,其强大的蚀刻和清洁性能至关重要。