SC2 Clean (HCl + H₂O₂ + H₂O)
Produit Dangereux
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Aperçu
SC2 Clean (HCl + H₂O₂ + H₂O) for semiconductor wafer cleaning.
Numéro CAS
N/A
Formule Moléculaire
HCl + H₂O₂ + H₂O
Grade du Produit
SEMI
Classe de Danger
CLASS 8
Corrosive Substances
Apparence
liquid
Formes de livraison
Drum IBC Bulk
Description du Produit
SC2 Clean est une solution de nettoyage spécialisée conçue pour l'industrie électronique et semi-conductrice. Elle élimine efficacement les contaminants métalliques des plaquettes de silicium, assurant ainsi une haute pureté et des performances élevées dans la fabrication des semi-conducteurs. Ce produit est largement utilisé dans la fabrication des circuits intégrés et des dispositifs microélectroniques, où ses propriétés d'attaque et de nettoyage sont essentielles.
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