SC2 Clean (HCl + H₂O₂ + H₂O)
Producto Peligroso
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Resumen
SC2 Clean (HCl + H₂O₂ + H₂O) for semiconductor wafer cleaning.
Número CAS
N/A
Fórmula Molecular
HCl + H₂O₂ + H₂O
Grado del Producto
SEMI
Clase de Peligro
CLASS 8
Corrosive Substances
Apariencia
liquid
Formas de entrega
Drum IBC Bulk
Descripción del Producto
SC2 Clean es una solución de limpieza especializada diseñada para la industria electrónica y de semiconductores. Elimina eficazmente los contaminantes metálicos de las obleas de silicio, asegurando alta pureza y rendimiento en la fabricación de semiconductores. Este producto se utiliza ampliamente en la fabricación de circuitos integrados y dispositivos microelectrónicos, donde sus propiedades de grabado y limpieza son cruciales.
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