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Ácido sulfúrico grado electrónico (98%, G5) - CAS 7664-93-9 - Chemical Product

Ácido sulfúrico grado electrónico (98%, G5)

CAS: 7664-93-9 H2SO4
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Ácido nítrico grado electrónico (68%, G4/G5) - CAS 7697-37-2 - Chemical Product

Ácido nítrico grado electrónico (68%, G4/G5)

CAS: 7697-37-2 HNO3
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Ácido clorhídrico grado electrónico (31%) - CAS 7647-01-0 - Chemical Product

Ácido clorhídrico grado electrónico (31%)

CAS: 7647-01-0 HCl
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Ácido fosfórico grado electrónico (85%) - CAS 7664-38-2 - Chemical Product

Ácido fosfórico grado electrónico (85%)

CAS: 7664-38-2 H3PO4
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Ácido fluorhídrico de grado electrónico (HF, 49%) - CAS 7664-39-3 - Chemical Product

Ácido fluorhídrico de grado electrónico (HF, 49%)

CAS: 7664-39-3 HF
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Ácido acético grado electrónico (99.9%+) - CAS 64-19-7 - Chemical Product

Ácido acético grado electrónico (99.9%+)

CAS: 64-19-7 CH3COOH
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Alcohol isopropílico de grado electrónico (IPA, 99.99%) - CAS 67-63-0 - Chemical Product

Alcohol isopropílico de grado electrónico (IPA, 99.99%)

CAS: 67-63-0 C3H8O
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Acetona grado electrónico (99.99%+) - CAS 67-64-1 - Chemical Product

Acetona grado electrónico (99.99%+)

CAS: 67-64-1 C3H6O
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N-Metil-2-pirrolidona de grado electrónico (NMP) - CAS 872-50-4 - Chemical Product

N-Metil-2-pirrolidona de grado electrónico (NMP)

CAS: 872-50-4 C5H9NO
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Metanol de grado electrónico - CAS 67-56-1 - Chemical Product

Metanol de grado electrónico

CAS: 67-56-1 CH₃OH
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Etanol de grado electrónico - CAS 64-17-5 - Chemical Product

Etanol de grado electrónico

CAS: 64-17-5 C2H5OH
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I-Line Photoresist (365 nm) - CAS N/A - Chemical Product

I-Line Photoresist (365 nm)

CAS: N/A N/A
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Resistente fotosensible EUV (13.5 nm) - CAS N/A - Chemical Product

Resistente fotosensible EUV (13.5 nm)

CAS: N/A N/A
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Fotorresistente de tono positivo - CAS N/A - Chemical Product

Fotorresistente de tono positivo

CAS: N/A N/A
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Fotorresistente de tono negativo - CAS N/A - Chemical Product

Fotorresistente de tono negativo

CAS: N/A N/A
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Recubrimiento antirreflectante inferior (BARC) - CAS N/A - Chemical Product

Recubrimiento antirreflectante inferior (BARC)

CAS: N/A N/A
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Capa superior (litografía por inmersión) - CAS N/A - Chemical Product

Capa superior (litografía por inmersión)

CAS: N/A N/A
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SC2 Clean (HCl + H₂O₂ + H₂O) - CAS N/A - Chemical Product

SC2 Clean (HCl + H₂O₂ + H₂O)

CAS: N/A HCl + H₂O₂ + H₂O
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Generador de ácido fotolítico (PAG) - CAS N/A - Chemical Product

Generador de ácido fotolítico (PAG)

CAS: N/A N/A
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Desarrollador a base de TMAH (2.38%) - CAS 75-59-2 - Chemical Product

Desarrollador a base de TMAH (2.38%)

CAS: 75-59-2 N/A
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