ArF Photoresist (193 nm, dry)
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Resumen
ArF Photoresist (193 nm, dry) for high-precision IC manufacturing.
Número CAS
N/A
Fórmula Molecular
N/A
Grado del Producto
SEMI
Apariencia
liquid
Formas de entrega
Canister Drum
Descripción del Producto
Resistencia fotográfica de ArF (193 nm, seco) es un químico especializado utilizado en la industria de semiconductores para crear patrones finos en obleas de silicio. Es crucial en la fabricación de circuitos integrados (CIs), permitiendo la producción de dispositivos electrónicos más pequeños y potentes. Esta resistencia fotográfica ofrece excelente resolución y sensibilidad, lo que la hace ideal para procesos de litografía avanzada. Sus aplicaciones principales incluyen la fabricación de microprocesadores, chips de memoria y otros componentes semiconductores.
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