ArF Photoresist (193 nm, dry)

Résist photochimique ArF (193 nm, sec) est un composé chimique spécialisé utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour créer des motifs fins sur les plaquettes de silicium. Il est crucial dans la fabrication des circuits intégrés (CI), permettant la production d'appareils électroniques plus petits et plus puissants. Ce résist offre une excellente résolution et sensibilité, le rendant idéal pour les processus de lithographie avancés. Ses applications principales comprennent la fabrication des microprocesseurs, des puces mémoire et d'autres composants semi-conducteurs.