KrF Photoresist (248 nm)

Résist photochimique KrF (248 nm) est un composé chimique spécialisé utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour créer des motifs fins sur les wafer de silicium. Il est largement utilisé dans les processus de fabrication de circuits intégrés, où sa haute sensibilité et sa résolution à une longueur d'onde de 248 nm permettent la production de dispositifs microélectroniques avancés. Ce résist photochimique offre une excellente adhérence aux substrats, une bonne résistance à l'attaque chimique et des performances constantes, ce qui en fait un matériau essentiel dans la fabrication des circuits intégrés.