KrF光刻胶 (248 nm)

KrF光刻胶（248纳米）是一种在半导体行业中用于在硅片上制作精细图案的专用化学品。它广泛应用于集成电路制造工艺中，其在248纳米波长下的高灵敏度和分辨率使得先进微电子器件的生产成为可能。这种光刻胶对基板具有良好的附着力、优异的蚀刻抵抗力和稳定的性能，使其成为集成电路制造中的关键材料。