I-Line光刻胶 (365 nm)

I-Line光刻胶（365纳米）是一种在半导体和集成电路（IC）制造的光刻工艺中使用的专用化学品。它设计用于对365纳米波长的光敏感，从而能够在硅片上实现精确的图案形成。该产品在电子工业中至关重要，尤其是在集成电路制造中，它有助于创建具有优异分辨率和附着力的精细图案。其主要特点包括高灵敏度、良好的蚀刻阻力以及在加工条件下的稳定性。