ArF光刻胶（193 nm，干式）

ArF光刻胶（193纳米，干法）是一种在半导体行业中用于在硅片上制作精细图案的专用化学品。它在集成电路（IC）的制造中至关重要，有助于生产更小、更强大的电子设备。这种光刻胶具有优异的分辨率和灵敏度，使其适用于先进的光刻工艺。其主要应用包括微处理器、存储芯片和其他半导体元件的制造。