ArF浸没式光刻胶 (193 nm)

ArF浸没光刻胶（193纳米）是一种在半导体制造光刻工艺中使用的高精度化学材料。它专门用于与193纳米波长的ArF（氩氟）激光器配合使用，能够在硅片上产生极其精细的图案。这种光刻胶对于实现电子和半导体行业中更小的特征尺寸和更高的分辨率至关重要。其主要特性包括优异的灵敏度、分辨率和蚀刻抵抗力，使其适用于芯片制造中的先进工艺节点。