正性光刻胶

正性光刻胶是一种在半导体行业中用于在硅片上创建精确图案的专用化学品。它广泛应用于集成电路（IC）制造工艺中，在光刻过程中起着关键作用。该产品具有优异的分辨率和附着力，使其适用于先进的微加工技术。其作为蚀刻剂和剥离剂的主要功能有助于复杂电路设计的发展。