负性光刻胶

负性光刻胶是一种在半导体行业中用于在硅片上创建图案的专用化学品。它在集成电路（IC）制造中起着关键作用，通过光刻技术实现精细结构的形成。该产品具有出色的分辨率和附着力，适用于先进的电子应用。其在紫外线照射下形成坚固图案的能力，有助于高性能半导体的生产。