Fotorresistente de tono negativo
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Resumen
Negative Tone Photoresist for precise IC manufacturing.
Número CAS
N/A
Fórmula Molecular
N/A
Grado del Producto
SEMI
Apariencia
liquid
Formas de entrega
Canister Drum
Descripción del Producto
Resistencia Fotográfica de Tono Negativo es un químico especializado utilizado en la industria de semiconductores para crear patrones en obleas de silicio. Es crucial en la fabricación de circuitos integrados (IC), donde permite la formación de estructuras finas mediante fotolitografía. Este producto ofrece excelentes propiedades de resolución y adhesión, lo que lo hace ideal para aplicaciones electrónicas avanzadas. Su capacidad para formar patrones robustos bajo exposición a luz ultravioleta apoya la producción de semiconductores de alto rendimiento.
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