ArF Иммерсионный фотохимический состав (193 нм)
Contact for Price
Конкурентные цены • Быстрая доставка
Обзор
ArF Средство для фотообработки (193 нм) для передовой полупроводниковой технологии.
Номер CAS
N/A
Молекулярная формула
N/A
Класс продукта
SEMI
Внешний вид
liquid
Формы доставки
Canister Drum
Описание продукта
Фоточувствительный материал ArF (193 нм) - это высокоточный химический препарат, используемый в процессе фотолитографии при производстве полупроводников. Он специально разработан для использования с лазерами ArF (Аргон-Фторид) длиной волны 193 нм, что позволяет получать чрезвычайно тонкие шаблоны на кремниевых пластинах. Этот фоточувствительный материал критически важен для достижения более мелких размеров элементов и более высокого разрешения в электронной и полупроводниковой промышленности. Его основные свойства включают отличную чувствительность, разрешение и стойкость к травлению, что делает его идеальным для передовых узлов при производстве чипов.
Сопутствующие продукты
Больше продуктов из Photoresists в Химикаты для электроники и полупроводников