G-Line Фоторезист (365 нм)
Contact for Price
Конкурентные цены • Быстрая доставка
Обзор
G-Line фотоотверждаемый состав (365 нм) для точного производства ИС.
Номер CAS
N/A
Молекулярная формула
N/A
Класс продукта
SEMI
Внешний вид
liquid
Формы упаковки
Canister Pail
Описание продукта
G-Line Photoresist (365 нм) - высокоточный фотохимический состав, предназначенный для использования в полупроводниковой промышленности. Он специально разработан для производства интегральных схем (ИС), где он играет важную роль в процессе фотолитографии. Этот продукт обладает отличной адгезией, разрешением и чувствительностью к свету длиной волны 365 нм, что делает его идеальным для создания тонких шаблонов на кремниевых пластинах. Его свойства как отвердителя и поглотителя УФ-излучения обеспечивают надежную работу в различных условиях обработки.
Сопутствующие продукты
Больше продуктов из Photoresists в Electronic & Semiconductor Chemicals