G-Line Photoresist (365 nm)

G-Line Fotoregist (365 nm) ist ein hochpräzises Fotoregist, das für den Einsatz in der Halbleiterindustrie konzipiert wurde. Es ist speziell für die Herstellung integrierter Schaltkreise (ICs) geeignet, bei dem es eine entscheidende Rolle im Photolithografie-Prozess spielt. Dieses Produkt bietet hervorragende Haftung, Auflösung und Empfindlichkeit gegenüber 365 nm Licht, wodurch es ideal für die Erstellung feiner Muster auf Siliziumwafern ist. Seine Eigenschaften als Aushärtemittel und UV-Absorber gewährleisten zuverlässige Leistung unter verschiedenen Bearbeitungsbedingungen.