I-Line Photoresist (365 nm)

I-Line Photoresist (365 nm) ist ein spezielles Chemikalie, das im Photolithografie-Prozess der Halbleiter- und integrierten Schaltung (IC)-Herstellung verwendet wird. Es ist darauf ausgelegt, empfindlich auf Licht mit einer Wellenlänge von 365 nm zu reagieren, wodurch präzise Muster auf Siliziumwafern gebildet werden können. Dieses Produkt ist in der Elektronikindustrie von entscheidender Bedeutung, insbesondere bei der IC-Fertigung, wo es die Erstellung feiner Muster mit hervorragender Auflösung und Haftungseigenschaften unterstützt. Zu seinen wichtigsten Merkmalen gehören hohe Empfindlichkeit, gute Ätzwiderstandsfähigkeit und Stabilität unter Verarbeitungsbedingungen.