I-Line Photoresist (365 nm)

Resistencia fotográfica I-Line (365 nm) es un químico especializado utilizado en el proceso de fotolitografía de la fabricación de semiconductores y circuitos integrados (CI). Está diseñado para ser sensible a la luz de longitud de onda de 365 nm, permitiendo la formación precisa de patrones en waferes de silicio. Este producto es crucial en la industria electrónica, especialmente en la fabricación de CI, donde apoya la creación de patrones finos con excelente resolución y propiedades de adhesión. Sus características principales incluyen alta sensibilidad, buena resistencia a la etch y estabilidad bajo condiciones de procesamiento.