KrF Photoresist (248 nm)

Resistencia fotográfica de KrF (248 nm) es un químico especializado utilizado en la industria de semiconductores para crear patrones finos en obleas de silicio. Se utiliza ampliamente en los procesos de fabricación de circuitos integrados, donde su alta sensibilidad y resolución a una longitud de onda de 248 nm permiten la producción de dispositivos microelectrónicos avanzados. Este resistente fotográfico ofrece excelente adhesión a los sustratos, buena resistencia a la grabación y un rendimiento consistente, convirtiéndolo en un material esencial en la fabricación de circuitos integrados.