I-Line Photoresist (365 nm)

Résist photo I-Line (365 nm) est un composé chimique spécialisé utilisé dans le processus de photolithographie de la fabrication de semi-conducteurs et de circuits intégrés (CI). Il est conçu pour être sensible à la lumière de longueur d'onde 365 nm, permettant ainsi la formation précise de motifs sur les plaquettes de silicium. Ce produit est essentiel dans l'industrie électronique, en particulier dans la fabrication de circuits intégrés, où il facilite la création de motifs fins avec une excellente résolution et des propriétés d'adhésion. Ses caractéristiques principales comprennent une haute sensibilité, une bonne résistance à l'attaque chimique et une stabilité sous les conditions de traitement.