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Acide sulfurique de qualité électronique (98 %, G5) - CAS 7664-93-9 - Chemical Product

Acide sulfurique de qualité électronique (98 %, G5)

CAS: 7664-93-9 H2SO4
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Acide nitrique de qualité électronique (68%, G4/G5) - CAS 7697-37-2 - Chemical Product

Acide nitrique de qualité électronique (68%, G4/G5)

CAS: 7697-37-2 HNO3
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Acide chlorhydrique de qualité électronique (31%) - CAS 7647-01-0 - Chemical Product

Acide chlorhydrique de qualité électronique (31%)

CAS: 7647-01-0 HCl
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Acide phosphorique de qualité électronique (85%) - CAS 7664-38-2 - Chemical Product

Acide phosphorique de qualité électronique (85%)

CAS: 7664-38-2 H3PO4
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Acide fluorhydrique de qualité électronique (HF, 49%) - CAS 7664-39-3 - Chemical Product

Acide fluorhydrique de qualité électronique (HF, 49%)

CAS: 7664-39-3 HF
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Acide acétique de qualité électronique (99,9 %+) Note: The comma is used as the decimal separator in French, so "99.9%" becomes "99,9 %". - CAS 64-19-7 - Chemical Product
Alcool isopropylique de qualité électronique (IPA, 99,99 %) - CAS 67-63-0 - Chemical Product

Alcool isopropylique de qualité électronique (IPA, 99,99 %)

CAS: 67-63-0 C3H8O
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Acétone de qualité électronique (99.99%+) - CAS 67-64-1 - Chemical Product

Acétone de qualité électronique (99.99%+)

CAS: 67-64-1 C3H6O
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N-Méthyl-2-pyrrolidone de qualité électronique (NMP) - CAS 872-50-4 - Chemical Product

N-Méthyl-2-pyrrolidone de qualité électronique (NMP)

CAS: 872-50-4 C5H9NO
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Méthanol de qualité électronique - CAS 67-56-1 - Chemical Product

Méthanol de qualité électronique

CAS: 67-56-1 CH₃OH
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Éthanol de qualité électronique - CAS 64-17-5 - Chemical Product

Éthanol de qualité électronique

CAS: 64-17-5 C2H5OH
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I-Line Photoresist (365 nm) - CAS N/A - Chemical Product

I-Line Photoresist (365 nm)

CAS: N/A N/A
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Résine photosensible EUV (13,5 nm) - CAS N/A - Chemical Product

Résine photosensible EUV (13,5 nm)

CAS: N/A N/A
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Positive Tone Photoresist - CAS N/A - Chemical Product

Positive Tone Photoresist

CAS: N/A N/A
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Résine photosensible à ton négatif - CAS N/A - Chemical Product

Résine photosensible à ton négatif

CAS: N/A N/A
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Revêtement anti-reflet de fond (BARC) - CAS N/A - Chemical Product

Revêtement anti-reflet de fond (BARC)

CAS: N/A N/A
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Top Coat (Immersion Lithographie) - CAS N/A - Chemical Product

Top Coat (Immersion Lithographie)

CAS: N/A N/A
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SC2 Clean (HCl + H₂O₂ + H₂O) - CAS N/A - Chemical Product

SC2 Clean (HCl + H₂O₂ + H₂O)

CAS: N/A HCl + H₂O₂ + H₂O
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Générateur d'acide photo (PAG) - CAS N/A - Chemical Product

Générateur d'acide photo (PAG)

CAS: N/A N/A
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Développeur à base de TMAH (2,38 %) - CAS 75-59-2 - Chemical Product

Développeur à base de TMAH (2,38 %)

CAS: 75-59-2 N/A
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