Produits chimiques pour dépôt atomique en couche (ALD)

ApeChem fournit un portefeuille complet de produits chimiques ALD, incluant des alkyles métalliques, alcoolates, amidures, halogénures et précurseurs à base cyclopentadiényle utilisés pour déposer des films minces d'oxydes, de nitrures et métalliques à l'échelle atomique. Ces précurseurs sont formulés pour offrir une pression de vapeur élevée, une stabilité thermique et des réactions de surface auto-limitantes propres, permettant des revêtements uniformes et exempts de trous d'épingle sur des architectures 3D complexes. Les applications typiques incluent les diélectriques de grille à haute permittivité (high-k), les condensateurs DRAM, les barrières de diffusion et les couches d'encapsulation pour les dispositifs logiques, mémoires, d'affichage, photovoltaïques et MEMS. Les utilisateurs en aval comprennent les fonderies de semi-conducteurs, les IDM, les fabricants d'écrans OLED et les instituts de R&D avancée nécessitant des matériaux constants et à faible contamination pour les nœuds de procédé de nouvelle génération.