G-Line光刻胶 (365 nm)

G-Line光刻胶（365纳米）是一种专为半导体行业设计的高精度光刻胶。它特别适用于集成电路（IC）制造， 在光刻工艺中起着关键作用。该产品具有优异的附着力、分辨率和对365纳米光的敏感性，非常适合在硅片上制作精细图案。其作为固化剂和紫外吸收剂的特性确保了在各种加工条件下的可靠性能。