Résine photosensible EUV (13,5 nm)
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Aperçu
EUV Photoresist (13.5 nm) for advanced semiconductor manufacturing.
Numéro CAS
N/A
Formule Moléculaire
N/A
Grade du Produit
SEMI
Apparence
liquid
Formes de livraison
Canister Drum
Description du Produit
Résist de photo-lithographie EUV (13,5 nm) est un matériau à haute précision conçu pour la lithographie extrême ultraviolette dans la fabrication des semi-conducteurs. Il permet la création de motifs de circuits plus fins et plus complexes sur les plaquettes de silicium. Ce produit est crucial pour la R&D et la production de grande série (HVM) dans l'industrie électronique et des semi-conducteurs, offrant une excellente résolution, sensibilité et résistance à l'érosion.
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