干法刻蚀气体（CF₄、C₄F₈、SF₆、NF₃）
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概述
干法刻蚀气体（CF₄、C₄F₈、SF₆、NF₃），用于精确的半导体刻蚀。
CAS号
75-71-8, 115-20-8, 2551-62-4, 7783-54-2
分子式
CF₄, C₄F₈, SF₆, NF₃
产品等级
Electronic Grade
危险等级
CLASS 2
Gases
外观
gas
包装形式
Canister
产品描述
干法刻蚀气体，包括CF₄、C₄F₈、SF₆和NF₃，是半导体工业中使用的高纯度气体。这些气体在等离子体刻蚀工艺中起着关键作用，能够在硅片上形成精细的图案。它们对于实现高精度刻蚀并减少基底损伤至关重要，因此在先进电子器件的制造中是不可或缺的。
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