Gases para grabado en seco (CF₄, C₄F₈, SF₆, NF₃)
Producto Peligroso
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Resumen
Dry Etch Gases (CF₄, C₄F₈, SF₆, NF₃) for precise semiconductor etching.
Número CAS
75-71-8, 115-20-8, 2551-62-4, 7783-54-2
Fórmula Molecular
CF₄, C₄F₈, SF₆, NF₃
Grado del Producto
Electronic Grade
Clase de Peligro
CLASS 2
Gases
Apariencia
gas
Formas de entrega
Canister
Descripción del Producto
Gases de grabado, incluyendo CF₄, C₄F₈, SF₆ y NF₃, son gases de alta pureza utilizados en la industria semiconductor. Estos gases desempeñan un papel crucial en los procesos de grabado por plasma, permitiendo la creación de patrones finos en obleas de silicio. Son esenciales para lograr un grabado de alta precisión con daño mínimo en el sustrato, lo que los hace indispensables en la fabricación de dispositivos electrónicos avanzados.
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