Trockenätzgase (CF₄, C₄F₈, SF₆, NF₃)

Trockene Ätzgase, einschließlich CF₄, C₄F₈, SF₆ und NF₃, sind hochreine Gase, die in der Halbleiterindustrie eingesetzt werden. Diese Gase spielen eine entscheidende Rolle bei Plasmäätzprozessen und ermöglichen die Erstellung feiner Muster auf Siliziumwafern. Sie sind unverzichtbar für die Erzielung präziser Ätzungen mit minimalem Substratschaden und somit unverzichtbar bei der Herstellung fortschrittlicher elektronischer Geräte.