Gaz de gravure sèche (CF₄, C₄F₈, SF₆, NF₃)
Produit Dangereux
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Aperçu
Dry Etch Gases (CF₄, C₄F₈, SF₆, NF₃) for precise semiconductor etching.
Numéro CAS
75-71-8, 115-20-8, 2551-62-4, 7783-54-2
Formule Moléculaire
CF₄, C₄F₈, SF₆, NF₃
Grade du Produit
Electronic Grade
Classe de Danger
CLASS 2
Gases
Apparence
gas
Formes de livraison
Canister
Description du Produit
Les gaz de gravure sèche, notamment CF₄, C₄F₈, SF₆ et NF₃, sont des gaz de haute pureté utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs. Ces gaz jouent un rôle critique dans les processus de gravure par plasma, permettant la création de motifs fins sur les plaquettes de silicium. Ils sont essentiels pour obtenir une gravure à haute précision avec un dommage minimal du substrat, ce qui les rend indispensables dans la fabrication des appareils électroniques avancés.
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