沉积气体（SiH₄、TEOS、WF₆）
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概述
沉积气体（SiH₄、TEOS、WF₆），用于半导体薄膜应用。
CAS号
7803-62-5, 78-10-4, 7783-82-6
分子式
SiH₄, C₈H₂₀O₄Si, WF₆
产品等级
Electronic Grade
危险等级
CLASS 2
Gases
外观
gas
包装形式
Canister
产品描述
沉积气体（SiH₄、TEOS、WF₆）在化学气相沉积（CVD）和原子层沉积（ALD）工艺中是必不可少的。这些气体用于电子和半导体行业中形成高质量的薄膜。它们在制造介电层、基于硅的材料和钨膜方面起着关键作用，有助于电子器件的性能和可靠性。
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