Gases de deposición (SiH₄, TEOS, WF₆)
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Resumen
Deposition Gases (SiH₄, TEOS, WF₆) for semiconductor thin film applications.
Número CAS
7803-62-5, 78-10-4, 7783-82-6
Fórmula Molecular
SiH₄, C₈H₂₀O₄Si, WF₆
Grado del Producto
Electronic Grade
Clase de Peligro
CLASS 2
Gases
Apariencia
gas
Formas de entrega
Canister
Descripción del Producto
Gases de deposición (SiH₄, TEOS, WF₆) son esenciales en los procesos de deposición por vapor químico (CVD) y deposición de capas atómicas (ALD). Estos gases se utilizan para formar películas delgadas de alta calidad en la industria electrónica y de semiconductores. Juegan un papel crítico en la creación de capas dieléctricas, materiales basados en silicio y películas de tungsteno, contribuyendo al rendimiento y fiabilidad de los dispositivos electrónicos.
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