Abscheidungsgase (SiH₄, TEOS, WF₆)
Gefährliches Produkt
Contact for Price
Preis auf Anfrage
Übersicht
Deposition Gases (SiH₄, TEOS, WF₆) for semiconductor thin film applications.
CAS-Nummer
7803-62-5, 78-10-4, 7783-82-6
Molekularformel
SiH₄, C₈H₂₀O₄Si, WF₆
Produktgrad
Electronic Grade
Gefahrenklasse
CLASS 2
Gases
Erscheinungsbild
gas
Lieferformen
Canister
Produktbeschreibung
Ablagerungsgase (SiH₄, TEOS, WF₆) sind entscheidend für die chemische Dampfabscheidung (CVD) und atomare Schichtabscheidung (ALD). Diese Gase werden verwendet, um hochwertige dünnfilmige Schichten in der Elektronik- und Halbleiterindustrie zu erzeugen. Sie spielen eine wichtige Rolle bei der Erstellung von Dielektrika, siliziumbasierten Materialien und Wolframfilmen, was zur Leistungsfähigkeit und Zuverlässigkeit elektronischer Geräte beiträgt.
Verwandte Produkte
Mehr Produkte von CVD/ALD Gases in Elektronik- & Halbleiterchemikalien