غازات الترسيب (SiH₄، TEOS، WF₆)
المنتج الخطر
Contact for Price
السعر عند الطلب
نظرة عامة
غازات الترسيب (SiH4، TEOS، WF6) لتطبيقات الأفلام الرقيقة في الصناعات الإلكترونية.
رقم CAS
7803-62-5, 78-10-4, 7783-82-6
الصيغة الجزيئية
SiH₄, C₈H₂₀O₄Si, WF₆
درجة المنتج
Electronic Grade
فئة الخطر
CLASS 2
Gases
المظهر
gas
أشكال التسليم
Canister
وصف المنتج
أكاسيد الغازات (SiH₄، TEOS، WF₆) ضرورية في عمليات الترسيب الكيميائي بالبخار (CVD) وتراكم الطبقات الذرية (ALD). تُستخدم هذه الغازات لتشكيل طبقات رقيقة عالية الجودة في صناعة الإلكترونيات والشرائح الدقيقة. تلعب دورًا حيويًا في إنشاء طبقات عازلة، مواد قائمة على السيليكون، وطبقات من التنجستين، مما يساهم في أداء وموثوقية الأجهزة الإلكترونية.
المنتجات ذات الصلة
المزيد من المنتجات من CVD/ALD Gases في كيماويات الإلكترونيات وأشباه الموصلات