Nuestros Productos
Mostrando 156 productos
Ácido sulfúrico grado electrónico (98%, G5)
Ácido nítrico grado electrónico (68%, G4/G5)
Ácido clorhídrico grado electrónico (31%)
Ácido fosfórico grado electrónico (85%)
Ácido fluorhídrico de grado electrónico (HF, 49%)
Ácido acético grado electrónico (99.9%+)
Alcohol isopropílico de grado electrónico (IPA, 99.99%)
Acetona grado electrónico (99.99%+)
N-Metil-2-pirrolidona de grado electrónico (NMP)
Metanol de grado electrónico
Etanol de grado electrónico
Agua ultrapura (UPW)
G-Line Photoresist (365 nm)
I-Line Photoresist (365 nm)
KrF Photoresist (248 nm)
ArF Photoresist (193 nm, dry)
Resistente fotolitográfico ArF para inmersión (193 nm)
Resistente fotosensible EUV (13.5 nm)
Fotorresistente de tono positivo
Fotorresistente de tono negativo
Recubrimiento antirreflectante inferior (BARC)
Capa superior (litografía por inmersión)
Generador de ácido fotolítico (PAG)
Desarrollador a base de TMAH (2.38%)
Grabado buffered de óxido (BOE, HF/NH₄F)
SC1 Clean (NH₄OH + H₂O₂ + H₂O)
SC2 Clean (HCl + H₂O₂ + H₂O)
Limpieza estándar RCA
Limpiadores para barreras de cobre
Fluidos de limpieza post-CMP
Limpiadores por aspersión para obleas individuales
Gases para grabado en seco (CF₄, C₄F₈, SF₆, NF₃)
Gases de deposición (SiH₄, TEOS, WF₆)
Hexafluoruro de tungsteno (WF₆)
Silano (SiH₄)
TEOS (Tetraetil ortosilicato)
Tetracloruro de titanio (TiCl₄)
Pentacloruro de tántalo (TaCl₅)
Hidróxido de amonio (28–30%, grado electrónico)
Peróxido de hidrógeno (30%, grado electrónico)
Obleas de silicio (pulidas)
Arseniuro de galio (GaAs) Substratos
Nitrógeno (N₂, alta pureza)
Argón (Ar, alta pureza)
Oxígeno (O₂, alta pureza)
Hidrógeno (H₂, alta pureza)
Helio (He, alta pureza)
Cloro (Cl₂, alta pureza)
Tricloruro de boro (BCl₃)
Fosfina (PH₃)
Arsina (AsH₃)
Diborano (B₂H₆)
Trimetilaluminio (TMA)
Trimetilboro (TMB)
Isopropóxido de titanio (TTIP)
Etóxido de tántalo
Disilano (Si₂H₆)
Germano (GeH₄)
Amoniaco (NH₃, alta pureza)
Dióxido de carbono (CO₂, alta pureza)
Hexafluoruro de azufre (SF₆)
Trifluoruro de nitrógeno (NF₃)
Perfluorociclobutano (c-C₄F₈)
Octafluorociclobutano (C₄F₈)
Trifluorometano (CHF₃, R23)
Tetrafluorometano (CF₄)
Hexafluoroetano (C₂F₆)
Perfluoropropano (C₃F₈)
Perfluorobutano (C₄F₁₀)
Yodotrimetano (CF₃I)
Bromotrifluorometano (Halon 1301)
Bromoclorodifluorometano (Halon 1211)
Agua desionizada de grado electrónico (agua DI)
Fluidos de limpieza para superficies de obleas
Agentes secantes (para secado por centrifugado)
Solución de galvanizado de cobre ácida
Solución de cobre sin electroforesis
Brillantes para cobre
Niveladores y Supresores
Solución de plata por inmersión
Oro por inmersión (ENIG)
Estaño por inmersión
OSP (Preservante Orgánico de Soldabilidad)
Resistente fotosensible en película seca
Resistente líquido (PCB)
Tinta para máscara de soldadura
Tinta para serigrafía
Limpiador de paredes de agujeros (Desmear)
Tratamiento de óxido negro
Activadores PTH (a base de Pd)
Microatacantes
Agentes anti-sulfatación
Kits de prueba para contaminación iónica
Promotores de adhesión
Pastas térmicas conductoras (TIMs)
Geles dieléctricos y encapsulantes
Adhesivos conductores (rellenos con Ag)
Agentes antiestáticos (sala blanca)
Dispersiones de Nano-SiO₂
Agentes de tratamiento superficial (para PCB)
Materiales de interfaz térmica (TIMs)
Underfill Encapsulants
Compuestos de moldeo
Alambres para uniones por alambre
Adhesivos para montaje dieléctrico
Flujos (para soldadura)
Fluidos de limpieza (para eliminación de flux)
Recubrimientos conformales
Compuestos de encapsulación
Materiales de blindaje EMI
Grasas térmicas
Materiales de cambio de fase (PCM)
Compuestos para disipación de calor
Almohadillas térmicas
Adhesivos conductores eléctricos
Películas conductoras anisotrópicas (ACF)
Adhesivos conductores en eje Z
Adhesivos ópticos
Sellantes encapsulantes curables por UV
Encapsulantes de silicona (para LED)
Encapsulantes epoxi
Encapsulantes de poliuretano
Recubrimientos de Parylene
Productos químicos para deposición atómica en capas (ALD)
Fuentes de epitaxia por haces moleculares (MBE)
Dopantes para implantación iónica
Cintas para el rectificado de obleas
Cuchillas de sierra para corte
Pulimentos CMP (para Cu, STI, W)
Limpiadores post-CMP
Portadores de obleas (FOUPs, FOSBs)
Ropa para sala limpia
Toallitas para sala limpia
Hisopos para sala limpia
Contadores de partículas
Medidores de resistividad superficial
Ionizadores
Filtros HEPA/ULPA
Filtros de punto de uso
Depuradores de gases de escape
Inventario basado en la nube
Mezcla personalizada
Soporte técnico
Análisis de falla
Control de contaminación
Cumplimiento Normativo
REACH/ROHS Support
Análisis de huella de carbono
Soluciones de química verde
Descarga Cero de Líquidos (ZLD)
Integración de Energías Renovables
Envases sostenibles
Soporte para diseño ecológico
Análisis del ciclo de vida (LCA)
Certificación de Carbono Neutral
Apoyo para informes ESG
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