Trimethylaluminium (TMA)
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Übersicht
Trimethylaluminum (TMA) for high-k dielectric films in semiconductor manufacturing.
Produktbeschreibung
Trimethylaluminium (TMA) ist ein Schlüsselprecursor, der in atomaren Schichtabscheidungsverfahren (ALD) verwendet wird. Es wird in der Elektronik- und Halbleiterindustrie weit verbreitet eingesetzt, um hoch-k-Dielektrikumschichten zu bilden. TMA bietet ausgezeichnete thermische Stabilität und Reaktivität, wodurch es für präzise und gleichmäßige Schichtabscheidung geeignet ist.