Nettoyants post-CMP

Les nettoyants post-CMP sont des solutions spécialisées conçues pour éliminer les résidus de planarisation chimique mécanique (CMP) de la surface des plaquettes de silicium. Ces nettoyants jouent un rôle crucial dans la garantie de surfaces de haute qualité et sans défaut, ce qui est essentiel pour les performances et la fiabilité des circuits intégrés (CI). Ils sont largement utilisés dans l'industrie électronique et semi-conductrice, offrant de excellentes propriétés de tensioactif, d'humidification et de dispersion, ainsi que des capacités d'inhibition de la corrosion et d'attaque chimique.