Revêtement anti-reflet de fond (BARC)

Revêtement anti-réflexion inférieur (BARC) est un revêtement spécialisé utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour améliorer la précision et la résolution des processus de photolithographie. Il réduit efficacement la réflexion de la lumière provenant du substrat, entraînant une meilleure définition du motif et un meilleur contrôle des dimensions critiques. Les applications clés comprennent la fabrication avancée de semi-conducteurs, où le BARC joue un rôle crucial dans l'obtention de largeurs de lignes plus fines et d'un rendement plus élevé. Les propriétés notables comprennent une excellente adhésion à divers substrats et une compatibilité avec les matériaux photo-résistifs.