SC1 Reiniger (NH₄OH + H₂O₂ + H₂O)
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Übersicht
SC1 Clean (NH₄OH + H₂O₂ + H₂O) ist eine leistungsstarke Reinigungsflüssigkeit für Halbleiterwafer.
CAS-Nummer
N/A
Molekularformel
NH₄OH + H₂O₂ + H₂O
Produktgrad
SEMI
Gefahrenklasse
CLASS 8
Corrosive Substances
Erscheinungsbild
liquid
Lieferformen
Drum IBC Bulk
Produktbeschreibung
SC1 Clean (NH₄OH + H₂O₂ + H₂O) ist eine hochreine Reinigungsflüssigkeit, die für die Elektronik- und Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Sie entfernt effektiv Partikel und Verunreinigungen von Siliziumwafern und gewährleistet so optimale Leistung und Ausbeute bei der Halbleiterherstellung. Diese Flüssigkeit wird aufgrund ihrer hervorragenden Ätz- und Partikelfreisetzungsfähigkeiten häufig in Wafer-Reinigungsprozessen eingesetzt. Zu den wichtigsten Eigenschaften gehören hohe Reinheit, Stabilität und Kompatibilität mit verschiedenen Halbleitermaterialien.
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