SC1 Reiniger (NH₄OH + H₂O₂ + H₂O)

SC1 Clean (NH₄OH + H₂O₂ + H₂O) ist eine hochreine Reinigungsflüssigkeit, die für die Elektronik- und Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Sie entfernt effektiv Partikel und Verunreinigungen von Siliziumwafern und gewährleistet so optimale Leistung und Ausbeute bei der Halbleiterherstellung. Diese Flüssigkeit wird aufgrund ihrer hervorragenden Ätz- und Partikelfreisetzungsfähigkeiten häufig in Wafer-Reinigungsprozessen eingesetzt. Zu den wichtigsten Eigenschaften gehören hohe Reinheit, Stabilität und Kompatibilität mit verschiedenen Halbleitermaterialien.