Hexafluorosilicique ultra-pure H₂SiF₆ (pour solaire)

Acide fluorosilicique H₂SiF₆ à très haute pureté est un agent de gravure de haut niveau spécialement conçu pour l'industrie solaire. Il joue un rôle critique dans les processus de texturation des plaquettes, améliorant ainsi l'efficacité des cellules solaires. Ce produit de grade électronique est largement utilisé dans les industries électroniques et semi-conductrices en raison de sa pureté et de son efficacité pour créer des textures de surface précises. Reconnu pour sa capacité à former des couches SEI stables et à agir comme un scavenger efficace de HF, il assure des performances optimales et une longue durée de vie des panneaux solaires.