Ácido fluorosilícico de ultraalta pureza (H₂SiF₆) (para energía solar)

Ácido fluorhídrico de silicio de ultra alta pureza (H₂SiF₆) es un agente de grabado de alto grado especialmente diseñado para la industria solar. Juega un papel crítico en los procesos de texturización de wafer, mejorando la eficiencia de las celdas solares. Este producto de grado electrónico se utiliza ampliamente en las industrias electrónica y de semiconductores debido a su pureza y efectividad para crear texturas superficiales precisas. Destaca por su capacidad para formar capas SEI estables y actuar como un scavenger eficiente de HF, asegurando un rendimiento óptimo y una larga vida útil de los paneles solares.