Ионная имплантация доноров
Contact for Price
Конкурентные цены • Быстрая доставка
Обзор
Ионо-имплантирующие примеси для процессов легирования полупроводников.
Номер CAS
N/A
Молекулярная формула
N/A
Класс продукта
SEMI
Внешний вид
solid
Формы упаковки
Canister Bulk
Описание продукта
Ионная имплантация примесей — это специализированные химические вещества, используемые в полупроводниковой промышленности для введения примесей в кремниевые пластины, изменяя их электрические свойства. Эти примеси играют важную роль в производстве интегральных схем (ИС), позволяя точно контролировать проводимость и тип полупроводников. Основные применения включают производство транзисторов, диодов и других электронных компонентов. Известны своей высокой чистотой и стабильной работой, эти примеси способствуют развитию электронных технологий.
Сопутствующие продукты
Больше продуктов из Doping в Electronic & Semiconductor Chemicals